各種磁控濺射純金屬及合金靶材，純度高、密度高、組織結構優良、使用壽命長。擁有兩項國家授權專利：采用最先進工藝生產的純金屬Cr靶（專利號：ZL 93 1 01604.5）和科學先進新穎的靶材結構設計（專利號：ZL 99 2 43973.6）。產品規格齊全，包括圓形、環形、矩形和管形等各種形狀，尺寸可根據用戶的要求定制。生產的靶材廣泛應用于大面積裝飾玻璃鍍膜、耐磨鍍膜、電子行業CD、VCD等各類光碟以及各種磁碟鍍膜等。產品市場占有率高，并遠銷美國、日本及臺灣等國家和地區。